基盤技術 の PVDに関する解説。

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PVD

読み方、または別称:ぴーぶいでぃー

PVDは、Phisical Vapor Deposionの略称である。物理気相成長法と訳される。PVDとは、高真空中で水を沸騰させるときのように金属を気体にして、金属の表面に加工を加える原理が有名である。このような原理を蒸着法というが他にもエネルギーを持った原子をぶつける方法であるスパッタリングやイオン化した金属を付着させるイオンレーティングの方法がある。いずれも簡単に言ってしまえばメッキのようなものだと考えて差し支えはない。
磨耗性を防止することに優れたチタンは金属部品や工具などのコーティングに単窒化チタンは金型のプレスのコーティングに使われる。腐食を防止するためには窒化クロムなどがもちいられる。蒸着法は膜の純度が高くなめらかにできるが、影になった部分に付着させることはできない。イオンプレーティングは影へ回りこませることもでき密着力も強い。宇宙開発の一環として作られた技術である。スパッタリングは容易に幕を作ることができる。化学反応によって表面に膜をつけることをCVDと呼ぶ。PVDと比較して大きな装置が要らないことなどにメリットがある。PVDよりもなめらかな仕上がりとなる。

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