基盤技術 の MOSFETに関する解説。

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MOSFET

読み方、または別称:もすふぇっと

MOSFET( Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)、モスフェットは、Field Effect Transistor(FET)、電界効果トランジスタの一種で、LSIの中では最も一般的に使用されている。
MOSFETの材質には、一般的にシリコンを使用するが、IGMOS(Insulated-Gate FET)やMISF (Metal-Insulator Semiconductor FET)がMOSFETとほぼ同じ用途に用いられることがある。
MOSFETは、通常はp型のシリコン基板上で作られる。n型MOS(NMOS) の場合、p型のシリコン基板上のゲート領域にシリコンの酸化膜とその上にゲート金属を形成し、ドレイン・ソース領域には高濃度の不純物をイオン注入することで、n型の半導体ができる。
一方、p型MOS(PMOS) の場合は、p型のシリコン基板にまずはイオン注入でn層のエリアを作成する。次にn型の注入領域中のゲートエリアにシリコンの酸化膜とその上にゲート金属を形成し、ドレイン・ソースエリアには高濃度の不純物を再度イオン注入することで、p型の半導体ができる。

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