基盤技術 の リソグラフィに関する解説。

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リソグラフィ

読み方、または別称:りそぐらふぃ

リングラフィとは、フォトリソグラフィの略称である。フォトリングラフィ(Photolithography)とは、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを、生成する技術のことを指してそう呼ぶ。具体的には、感光性の物質を塗布した物質の表面に、パターン状に露光することである。
主な用途としては、半導体素子、プリント基板、印刷版、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造である。中でも、半導体素子の製造においては、フォトレジストと呼ばれる感光性有機物質を塗布した、ヒ化ガリウム、シリコンといった半導体ウェーハー上に、露光装置を用いてフォトマスクに描かれた素子、回路のパターンを焼きつけるものである。
この時の使用される露光装置は、ステッパーと呼ばれるもので、これにはパターンが微細化するほど短波長の光源が必要となる。現在では、この光源には、高圧水銀灯のg線(波長 436nm)、i線(波長 365nm)、KrFエキシマレーザー(波長 248nm)、ArFエキシマレーザー(波長 193nm)などが主に使われている。
また、他にもX線を用いたり、電子線リソグラフィと呼ばれる電子線で直接レジスト上に描画する方法などもある。ちなみに、リソグラフィ(lithography)とは、元々は「石版印刷」を意味する単語である。

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